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Fabrication of tin structure based on ALD-assisted non-resist trench nanolithography
 刊登日期：2018/05/15
  ‧ 專利名稱
  ‧ 專利證書號 10665696B2
9972702B2
11532729B2
11855190B2
  ‧ 專利權人 國立臺灣大學
  ‧ 專利國家
    (申請日)		 美國 (2014/05/22)
美國 (2018/04/25)
美國 (2020/05/26)
美國 (2022/12/13)
 
  ‧ 發明人/PI 陳敏璋,蔡坤諭,劉致為,
  ‧ 單位 台積電-臺灣大學聯合研發中心
  ‧ 簡歷/Experience
技術摘要 / Our Technology：



專利簡述 / Intellectual Properties：



 

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Email：ordiac@ntu.edu.tw 電話/Tel：02-3366-9945
 
 
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