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Self-focused ion beam lithography using dielectric lens

刊登日期：2017/01/19

‧ 專利名稱
‧ 專利證書號	9,666,441
‧ 專利權人	國立臺灣大學
‧ 專利國家 (申請日)	美國 (2015/09/14)
‧ 發明人	高振宏, 陳敏璋, 楊博軒,

技術摘要：

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