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 [68Ga]GaCl3之處理裝置套件及68Ga正子放射性同位素標誌之標誌套件與其用途(Processing Kit of [68Ga]GaCl3 , Labelling Kit of 68Ga-labelling and uses thereof)
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刊登日期：2019/10/01 |
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| ‧ 專利名稱 |
一種[68Ga]三氯化鎵溶液的處理裝置及處理方法以及68Ga正子放射性同位素標誌的標誌裝置及標誌方法 |
| ‧ 專利證書號 |
I717590
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| ‧ 專利權人 |
國立臺灣大學 |
‧ 專利國家
(申請日) |
中華民國 (2018/03/16)
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| ‧ 發明人/PI |
顏若芳,黃雅瑤,游智媜
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| ‧ 單位 |
醫學系 放射線科
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| ‧ 簡歷/Experience |
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| 技術摘要 / Our Technology： |
本發明提供一種[ 68 Ga]三氯化鎵溶液的處理裝置及處理方法以及 68 Ga正子放射性同位素標誌的標誌裝置及標誌方法。
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| 專利簡述 / Intellectual Properties： |
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聯繫方式 / Contact： |
| 臺大產學合作總中心 / Center of Industry-Academia Collaboration, NTU |
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| Email：ordiac@ntu.edu.tw |
電話/Tel：02-3366-9945 |
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