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 用於光電製程之微轉印印章與沾色裝置
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刊登日期：2014/05/21 |
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| ‧ 專利名稱 |
用於光電製程之微轉印印章與沾色裝置 |
| ‧ 專利證書號 |
I301450
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| ‧ 專利權人 |
國立臺灣大學 |
‧ 專利國家
(申請日) |
中華民國 (2005/11/30)
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| ‧ 發明人/PI |
謝國煌 ,楊申語 ,黃榮山 ,劉士榮 ,張致遠 ,
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| ‧ 單位 |
化學工程學系
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| ‧ 簡歷/Experience |
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| 技術摘要 / Our Technology： |
本發明揭示了具有色料親和部、凹狀結構或色料抗沾黏部之微轉印印章,藉由調整微轉印印章表面材質或結構以定位所沾附色料與控制其擴散範圍,並避免色料沾附於印章的預定沾色區域之外。
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| 市場需求 / Market Needs： |
此外,本發明亦揭示了一種用於光電製程之沾色裝置。 本計術可提升良率，提供大面積與複雜微結構的下世代製程。
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| 專利簡述 / Intellectual Properties： |
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| 相關圖片： |
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聯繫方式 / Contact： |
| 臺大產學合作總中心 / Center of Industry-Academia Collaboration, NTU |
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| Email：ordiac@ntu.edu.tw |
電話/Tel：02-3366-9945 |
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