鄰氨基苯甲酸衍生物做為基質輔助雷射脫附游離法的基質應用在質譜分析
刊登日期:2021/03/04
  ‧ 專利名稱 鄰氨基苯甲酸衍生物做為基質輔助雷射脫附游離法的基質應用在質譜分析
  ‧ 專利證書號 US 11,508,566 B2
  ‧ 專利權人 國立臺灣大學
  ‧ 專利國家
    (申請日)
美國 (2019/09/03)
美國 (2020/09/03)
 
  ‧ 發明人/PI 徐丞志,周必泰,李竹平,黃鵬軒,林立恩,黃俊穎,林大鈞,
  ‧ 單位 化學系
  ‧ 簡歷/Experience
技術摘要 / Our Technology:




專利簡述 / Intellectual Properties:




 

聯繫方式 / Contact:
臺大產學合作總中心 / Center of Industry-Academia Collaboration, NTU
Email:ordiac@ntu.edu.tw 電話/Tel:02-3366-9945